MX8R微分干涉工業檢測顯微鏡
MX8R三目明暗場微分干涉工業檢測顯微鏡配置了落射與透射照明系統、明暗場半復消金相物鏡、內置偏光觀察裝置，具有圖像清晰、襯度好，造型美觀，操作方便等特點，配備了高性能DIC組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕新式表現出來，廣泛用于LCD導電粒子，精密磁盤表面劃痕檢測等領域
MX8R三目明暗場微分干涉工業檢測顯微鏡配置了落射與透射照明系統、明暗場半復消金相物鏡、內置偏光觀察裝置，具有圖像清晰、襯度好，造型美觀，操作方便等特點，配備了高性能DIC組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕新式表現出來，廣泛用于LCD導電粒子，精密磁盤表面劃痕檢測等領域
兼具穩定性和安全性，能夠安全可靠的傳送晶圓，適合于前道到后道工程的晶圓檢查。擁有AWL046、AWL068兩種機型，分別可適用于4/6英寸晶圓檢測，6/8英寸晶圓檢測，適應范圍廣、搭配靈活?？勺杂稍O置的檢查模式，充分符合人機工程學設計，操作舒適、簡便。